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J-GLOBAL ID：202102220715126973 整理番号：21A0144169

点欠陥の特性から決定した高純度Si中の空格子点と格子間原子によって媒介された自己拡散の活性化エネルギー

Activation Energies of Self-diffusion Mediated by Vacancies and Interstitials in a High-Purity Si Determined from Properties of Point Defects

著者 (4件)：

SUEZAWA Masashi

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

FUKATA Naoki

(National Inst. for Materials Sci., Tsukuba, JPN)

IIJIMA Yoshiaki

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

YONENAGA Ichiro

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

資料名：

JPS Conference Proceedings (Web) (JPS Conference Proceedings (Web))

巻： 1 ページ： ROMBUNNO.012033 (WEB ONLY) 発行年： 2014年03月26日
JST資料番号： U1201A ISSN： 2435-3892 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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