文献
J-GLOBAL ID:202102220794895968
整理番号:21A0152680
180nmノードシリコンフォトニクスMPWプラットフォームにおけるOPC開発の予備的ラウンド【JST・京大機械翻訳】
Preliminary Round of OPC Development in 180nm node Silicon Photonics MPW platform
著者 (6件):
Huang Zengzhi
(United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China)
,
Zheng Zhenguo
(Mentor Graphics Corporation,Shanghai,China)
,
Chen Shijie
(United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China)
,
Feng Junbo
(United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China)
,
Huang Weiran
(United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China)
,
Cao Guowei
(United Microelectronics Center (CUMEC),Chongqing,China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
IWAPS
ページ:
1-3
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)