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文献
J-GLOBAL ID：202102221008749361
整理番号：21A0439523
混合粉末ターゲットを用いた一段階プロセススパッタリング堆積による多元素混合物薄膜の作製【JST・京大機械翻訳】
Preparation of Multielements Mixture Thin Film by One-Step Process Sputtering Deposition Using Mixture Powder Target
Kawasaki Hiroharu
(Electrical Engineering Department, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan)
,
Ohshima Tamiko
(Electrical Engineering Department, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan)
,
Yagyu Yoshihito
(National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Japan)
,
Ihara Takeshi
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan)
,
Suda Yoshiaki
(National Institute of Technology, Ishikawa College, Ishikawa, Japan)
資料名：
IEEE Transactions on Plasma Science
(IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 49 号： 1 ページ： 48-52 発行年： 2021年
JST資料番号： D0036B ISSN： 0093-3813 CODEN： ITPSBD 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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