文献
J-GLOBAL ID:202102221119939964
整理番号:21A0152690
人工希望パターンに基づくマスク最適化【JST・京大機械翻訳】
Mask Optimization based on artificial desired pattern
著者 (4件):
Peng Fei
(The Institute of Technological Sciences, Wuhan University,Wuhan,China)
,
Gui Chengqun
(The Institute of Technological Sciences, Wuhan University,Wuhan,China)
,
Song Yi
(The Institute of Technological Sciences, Wuhan University,Wuhan,China)
,
Shen Yijiang
(School of Automation, Guangdong University of Technology,Guangzhou,China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
IWAPS
ページ:
1-4
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)