文献
J-GLOBAL ID:202102221869905769
整理番号:21A0038031
Si-H結合活性化のための窒素Lewis酸を含むフラストレートLewis対【JST・京大機械翻訳】
Frustrated Lewis Pairs Comprising Nitrogen Lewis Acids for Si-H Bond Activation
著者 (5件):
Avigdori Idan
(Schulich Faculty of Chemistry, Technion-Israel Institute of Technology, Technion City, Haifa, 32000, Israel)
,
Pogoreltsev Alla
(Schulich Faculty of Chemistry, Technion-Israel Institute of Technology, Technion City, Haifa, 32000, Israel)
,
Kaushanski Alexander
(Schulich Faculty of Chemistry, Technion-Israel Institute of Technology, Technion City, Haifa, 32000, Israel)
,
Fridman Natalia
(Schulich Faculty of Chemistry, Technion-Israel Institute of Technology, Technion City, Haifa, 32000, Israel)
,
Gandelman Mark
(Schulich Faculty of Chemistry, Technion-Israel Institute of Technology, Technion City, Haifa, 32000, Israel)
資料名:
Angewandte Chemie
(Angewandte Chemie)
巻:
132
号:
52
ページ:
23682-23685
発行年:
2020年
JST資料番号:
A0396A
ISSN:
0044-8249
CODEN:
ANCEAD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)