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文献
J-GLOBAL ID:202102223783712959   整理番号:21A0151623

垂直スケール電荷トラップ(CT)3D NANDフラッシュメモリにおけるセル変動に及ぼすポリSiチャネルの影響【JST・京大機械翻訳】

Impacts of Poly-Si Channel on Cell Variations in Vertical Scaled Charge-trap (CT) 3D NAND Flash Memory
著者 (4件):
Wang Fei
(School of Information Science and Engineering (ISE), Shandong University,Qingdao,P. R. China,266237)
Zhan Xuepeng
(School of Information Science and Engineering (ISE), Shandong University,Qingdao,P. R. China,266237)
Li Yuan
(School of Information Science and Engineering (ISE), Shandong University,Qingdao,P. R. China,266237)
Chen Jiezhi
(School of Information Science and Engineering (ISE), Shandong University,Qingdao,P. R. China,266237)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2020  号: ICSICT  ページ: 1-3  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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