文献
J-GLOBAL ID:202102226646719191
整理番号:21A0451853
フーリエ変換赤外分光法による4H-SiCの表面の格子歪みの起源としての残留酸化副産物の物理的分析
Physical analysis of remained oxidation byproducts as the origins of lattice distortion at the surface of 4H-SiC by Fourier-transform infrared spectroscopy
著者 (3件):
HATMANTO Adhi Dwi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
HATMANTO Adhi Dwi
(Universitas Gadjah Mada, Yogyakarta, IDN)
,
KITA Koji
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
59
号:
SM
ページ:
SMMA02(5pp)
発行年:
2020年07月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)