文献
J-GLOBAL ID:202102227346996137
整理番号:21A0984274
低温応用のための28nm FD-SOI上の静電気学とチャネル結合【JST・京大機械翻訳】
Electrostatics and channel coupling on 28 nm FD-SOIfor cryogenic applications
著者 (12件):
Paz Bruna Cardoso
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
,
Casse Mikael
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
,
Haendler Sebastien
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Juge Andre
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Vincent Emmanuel
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Galy Philippe
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Arnaud Franck
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Ghibaudo Gerard
(IMEP-LAHC, CNRS, Universite ́ Grenoble Alpes, MINATEC Campus,Grenoble,France,38016)
,
Vinet Maud
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
,
de Franceschi Silvano
(CEA-IRIG, Universite ́ Grenoble Alpes,Grenoble,France)
,
Meunier Tristan
(Institut Ne ́el, Universite ́ Grenoble Alpes,Grenoble,France)
,
Gaillard Fred
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
EUROSOI-ULIS
ページ:
1-4
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)