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文献
J-GLOBAL ID：202102227346996137
整理番号：21A0984274
低温応用のための28nm FD-SOI上の静電気学とチャネル結合【JST・京大機械翻訳】
Electrostatics and channel coupling on 28 nm FD-SOIfor cryogenic applications
Paz Bruna Cardoso
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
,
Casse Mikael
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
,
Haendler Sebastien
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Juge Andre
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Vincent Emmanuel
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Galy Philippe
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Arnaud Franck
(STMicroelectronics,Crolles,France,38920)
,
Ghibaudo Gerard
(IMEP-LAHC, CNRS, Universite ́ Grenoble Alpes, MINATEC Campus,Grenoble,France,38016)
,
Vinet Maud
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
,
de Franceschi Silvano
(CEA-IRIG, Universite ́ Grenoble Alpes,Grenoble,France)
,
Meunier Tristan
(Institut Ne ́el, Universite ́ Grenoble Alpes,Grenoble,France)
,
Gaillard Fred
(Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,38000)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020 号： EUROSOI-ULIS ページ： 1-4 発行年： 2020年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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