文献
J-GLOBAL ID:202102227503973201
整理番号:21A0003222
インジウムすず酸化物のArイオンビームスパッタリングのための二次イオンのエネルギー分布【JST・京大機械翻訳】
Energy distributions of secondary ions for the Ar ion beam sputtering of indium tin oxide
著者 (2件):
Bundesmann Carsten
(Ion Source Development and Applications Group, Leibniz Institute of Surface Engineering (IOM), Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany)
,
Hellmich Anke
(Applied Materials GmbH & Co. KG, Siemensstrasse 100, 63755 Alzenau, Germany)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
38
号:
6
ページ:
064002-064002-11
発行年:
2020年
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)