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文献
J-GLOBAL ID：202102230191886787
整理番号：21A0150067
O_2/BCL_3ディジタルエッチ後の窒化ガリウム膜のXPS分析【JST・京大機械翻訳】
XPS Analysis of Gallium Nitride Film After O2/BCL3 Digital Etch
Tang Jiale
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
,
Hu Yongjie
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
,
Zhang Yudong
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
,
Gu Zhiqiang
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Che Dongchen
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Hu Dongdong
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Chen Lu
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Xu Kaidong
(Leuven Instruments Co. Ltd (Jiangsu),Xuzhou,China)
,
Zhuang Shiwei
(School of Physics and Electronic Engineering, Jiangsu Normal University,Xuzhou,China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020 号： CSTIC ページ： 1-4 発行年： 2020年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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