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文献
J-GLOBAL ID:202102237543666994   整理番号:21A0038609

ゾル-ゲル誘導LiドープNiOエピタキシャル薄膜における電気伝導率研究【JST・京大機械翻訳】

Electrical Conductivity Studies in Sol-Gel-Derived Li-Doped NiO Epitaxial Thin Films
著者 (2件):
Kokubun Yoshihiro
(Department of Information Technology and Electronics, Faculty of Science and Engineering, Ishinomaki Senshu University, Ishinomaki, Miyagi, 986-8580, Japan)
Nakagomi Shinji
(Department of Information Technology and Electronics, Faculty of Science and Engineering, Ishinomaki Senshu University, Ishinomaki, Miyagi, 986-8580, Japan)

資料名:
Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics  (Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics)

巻: 257  号: 12  ページ: e2000330  発行年: 2020年 
JST資料番号: C0599A  ISSN: 0370-1972  CODEN: PSSBBD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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