文献
J-GLOBAL ID:202102237543666994
整理番号:21A0038609
ゾル-ゲル誘導LiドープNiOエピタキシャル薄膜における電気伝導率研究【JST・京大機械翻訳】
Electrical Conductivity Studies in Sol-Gel-Derived Li-Doped NiO Epitaxial Thin Films
著者 (2件):
Kokubun Yoshihiro
(Department of Information Technology and Electronics, Faculty of Science and Engineering, Ishinomaki Senshu University, Ishinomaki, Miyagi, 986-8580, Japan)
,
Nakagomi Shinji
(Department of Information Technology and Electronics, Faculty of Science and Engineering, Ishinomaki Senshu University, Ishinomaki, Miyagi, 986-8580, Japan)
資料名:
Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics
(Physica Status Solidi. B. Basic Solid State Physics)
巻:
257
号:
12
ページ:
e2000330
発行年:
2020年
JST資料番号:
C0599A
ISSN:
0370-1972
CODEN:
PSSBBD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)