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文献
J-GLOBAL ID：202102241968439448
整理番号：21A2362041
マイクロリソグラフィー用のネガティブトーンフォトレジストとしてのアリールエポキシ熱硬化性樹脂のリソグラフィー性能【JST・京大機械翻訳】
Lithographic Performance of Aryl Epoxy Thermoset Resins as Negative Tone Photoresist for Microlithography
Vlnieska Vitor
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Microstructure Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
,
Vlnieska Vitor
(Chemistry Department, Federal University of Parana, Rua Coronel Francisco Heraclito dos Santos, 100, Jardim das Americas, Curitiba, PR 81531-980, Brazil)
,
Zakharova Margarita
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Microstructure Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
,
Mikhaylov Andrey
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Microstructure Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
,
Kunka Danays
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Microstructure Technology, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
資料名：
Polymers (Web)
(Polymers (Web))
巻： 12 号： 10 ページ： 2359 発行年： 2020年
JST資料番号： U7262A ISSN： 2073-4360 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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