文献
J-GLOBAL ID:202102245401402072
整理番号:21A0660320
低圧アルゴンRF放電におけるプラズマ特性に及ぼす自己バイアスの影響に関する流体モデリング
Fluid Modeling on Effect of Self-Bias on Plasma Characteristics in Low Pressure Argon RF Discharges
著者 (4件):
LIU Yue
(Dalian Univ. Technol., CHN)
,
ZHENG Junlin
(Dalian Univ. Technol., CHN)
,
FANG Yu
(Dalian Univ. Technol., CHN)
,
XI Yanbin
(Dalian Univ. Technol., CHN)
資料名:
Frontier of Applied Plasma Technology
(Frontier of Applied Plasma Technology)
巻:
13
号:
2
ページ:
47-52
発行年:
2020年06月
JST資料番号:
F2220A
ISSN:
1883-5589
CODEN:
FAPTBK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)