文献
J-GLOBAL ID:202102245627167098
整理番号:21A0150045
レーザスパイクアニールにおけるウエハ配置シフトを監視する新しい方法【JST・京大機械翻訳】
A Novel Methodology to Monitor Wafer Placement Shift in Laser Spike Anneal
著者 (7件):
Gui Yan
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
,
Jiang Lan
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
,
Shen Yaoting
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
,
Dong Qingwei
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
,
Chen Kecheng
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
,
Cheng Xinhua
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
,
Fang Jingxun
(Shanghai Huali Integrated Circuit Corporation,Shanghai,China,201314)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2020
号:
CSTIC
ページ:
1-3
発行年:
2020年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)