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文献
J-GLOBAL ID：202102250617955936
整理番号：21A0040698
効率的な光パターン形成のための阻害されたH-凝集を有する耐疲労架橋アゾ重合体【JST・京大機械翻訳】
Fatigue-Resistant Crosslinked Azopolymers with Inhibited H-Aggregation for Efficient Photopatterning
Yue Youfeng
(Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8565, Japan)
,
Azumi Reiko
(Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8565, Japan)
,
Norikane Yasuo
(Research Institute for Advanced Electronics and Photonics, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki, 305-8565, Japan)
資料名：
Chemphotochem
(Chemphotochem)
巻： 4 号： 12 ページ： 5383-5391 発行年： 2020年
JST資料番号： W3667A ISSN： 2367-0932 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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