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文献

J-GLOBAL ID：202102254215225044 整理番号：21A1935110

気相精密大量合成とソフトランディング法による超原子ナノクラスター集積膜の作製とその電気特性評価

Fabrication and Electrical Characterization of Naked Superatom Assembled Films based on High Intensity Nanocluster Source and Soft Landing

著者 (5件)：

横山高穂

(慶応大理工)

千葉竜弥

(慶応大理工)

平田直之

(慶応大理工)

渋田昌弘

(慶応大理工)

中嶋敦

(慶応大理工)

資料名：

日本化学会春季年会講演予稿集(Web) (日本化学会春季年会(Web))

巻： 101st ページ： ROMBUNNO.A05-4pm-03 (WEB ONLY) 発行年： 2021年
JST資料番号： U2384A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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