文献
J-GLOBAL ID:202102258770340133
整理番号:21A2170691
圧電BiFeO_3薄膜:Si上のMOCVDプロセスの最適化【JST・京大機械翻訳】
Piezoelectric BiFeO3 Thin Films: Optimization of MOCVD Process on Si
著者 (3件):
Micard Quentin
,
Condorelli Guglielmo Guido
,
Malandrino Graziella
資料名:
Nanomaterials (Web)
(Nanomaterials (Web))
巻:
10
号:
4
ページ:
630
発行年:
2020年
JST資料番号:
U7252A
ISSN:
2079-4991
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)