文献
J-GLOBAL ID:202102266159507343
整理番号:21A0545612
高周波マグネトロンスパッタリングによりガラス基板上に成長させたEuドープYVO_4薄膜の特性【JST・京大機械翻訳】
Properties of Eu-doped YVO4 thin films grown on glass substrates by radio-frequency magnetron sputtering
著者 (1件):
Cho Shinho
(Division of Materials Science and Engineering, Silla University, Busan, Republic of Korea)
資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻:
127
号:
3
ページ:
161
発行年:
2021年
JST資料番号:
D0256C
ISSN:
0947-8396
CODEN:
APHYCC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)