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文献
J-GLOBAL ID：202102273786298394
整理番号：21A2169693
懸垂導波路用のSiO_2薄膜の応力と屈折率制御【JST・京大機械翻訳】
Stress and Refractive Index Control of SiO2 Thin Films for Suspended Waveguides
Wostbrock Neal
(Department of Nanoscience and Microsystems Engineering, School of Engineering, University of New Mexico, MSC01 1120, Albuquerque, NM 87131-0001, USA)
,
Wostbrock Neal
(Center for High Technology Materials (CHTM), University of New Mexico, MSC04 2710, 1313 Goddard SE, Albuquerque, NM 87106-4343, USA)
,
Busani Tito
(Center for High Technology Materials (CHTM), University of New Mexico, MSC04 2710, 1313 Goddard SE, Albuquerque, NM 87106-4343, USA)
,
Busani Tito
(Department of Electrical and Computer Engineering (ECE), School of Engineering, University of New Mexico, MSC01 1100, Albuquerque, NM 87131-0001, USA)
資料名：
Nanomaterials (Web)
(Nanomaterials (Web))
巻： 10 号： 11 ページ： 2105 発行年： 2020年
JST資料番号： U7252A ISSN： 2079-4991 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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