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文献
J-GLOBAL ID：202102276080505251
整理番号：21A0518771
低圧容量結合N_2/Arプラズマにおける活性種の研究【JST・京大機械翻訳】
Investigation of active species in low-pressure capacitively coupled N2/Ar plasmas
Liang Ying-Shuang
(School of Science, University of Science and Technology Liaoning, Anshan 114051, China)
,
Xue Chan
(School of Aerospace Science and Technology, Xidian University, Xi’an 710126, China)
,
Zhang Yu-Ru
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), School of Physics, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
,
Wang You-Nian
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams (Ministry of Education), School of Physics, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China)
資料名：
Physics of Plasmas
(Physics of Plasmas)
巻： 28 号： 1 ページ： 013510-013510-14 発行年： 2021年
JST資料番号： T0641B ISSN： 1070-664X CODEN： PHPAEN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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