文献
J-GLOBAL ID:202102279159142376
整理番号:21A0147940
SERS応用のための高アスペクト比ナノピラーアレイのための新しい作製技術【JST・京大機械翻訳】
A novel fabrication technique for high-aspect-ratio nanopillar arrays for SERS application
著者 (5件):
Duan Tianli
(SUSTech Core Research Facilities, Southern University of Science and Technology, 1088 Xueyuan Avenue, Shenzhen 518055, China. duantl@sustech.edu.cn)
,
Gu Chenjie
,
Ang Diing Shenp
,
Xu Kang
,
Liu Zhihong
資料名:
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻:
10
号:
73
ページ:
45037-45041
発行年:
2020年
JST資料番号:
U7055A
ISSN:
2046-2069
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)