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J-GLOBAL ID：202102284456829664 整理番号：21A0060498

HoRh₂Si₂単結晶の高磁場磁化過程

High-Field Magnetization Processes of HoRh₂Si₂ Single Crystal

著者 (5件)：

SHIGEOKA Toru

(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)

FUJIWARA Tetsuya

(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)

KONDO Akihiro

(Univ. Tokyo, Chiba, JPN)

KINDO Koichi

(Univ. Tokyo, Chiba, JPN)

UWATOKO Yoshiya

(Univ. Tokyo, Chiba, JPN)

資料名：

JPS Conference Proceedings (Web) (JPS Conference Proceedings (Web))

巻： 3 ページ： ROMBUNNO.017005 (WEB ONLY) 発行年： 2014年06月16日
JST資料番号： U1201A ISSN： 2435-3892 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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HoRh2Si2単結晶の高磁場磁化過程

HoRh₂Si₂単結晶の高磁場磁化過程