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文献
J-GLOBAL ID：202102288878301029
整理番号：21A3407651
窒素ガス環境におけるシリコン表面上の水の接触角に及ぼす圧力の影響の理解:低温および高温領域間のコントラスト【JST・京大機械翻訳】
Understanding the effects of pressure on the contact angle of water on a silicon surface in nitrogen gas environment: Contrasts between low- and high-temperature regimes
Song Jia-Wen
(Institute of Thermal Science and Power Systems, School of Energy Engineering, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang 310027, People’s Republic of China)
,
Fan Li-Wu
(Institute of Thermal Science and Power Systems, School of Energy Engineering, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang 310027, People’s Republic of China)
,
Fan Li-Wu
(State Key Laboratory of Clean Energy Utilization, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang 310027, People’s Republic of China)
資料名：
Journal of Colloid and Interface Science
(Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 607 号： P2 ページ： 1571-1579 発行年： 2022年
JST資料番号： C0279A ISSN： 0021-9797 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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