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文献
J-GLOBAL ID：202202211158658293
整理番号：22A0434735
イオンビーム照射下での2DMoS_2スパッタ薄膜の電子構造工学:制御欠陥発生による誘導【JST・京大機械翻訳】
Electronic structure engineering of 2-D MoS2 sputtered thin films under ion beam irradiation: Induced by controlled defect generation
Gupta Deepika
(University School of Basic and Applied Sciences, Guru Gobind Singh Indraprastha University, New Delhi, 110078, India)
,
Chauhan Vishnu
(University School of Basic and Applied Sciences, Guru Gobind Singh Indraprastha University, New Delhi, 110078, India)
,
Koratkar N.
(Department of Mechanical, Aerospace and Nuclear Engineering, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, NY, 12180, United States)
,
Kumar Rajesh
(University School of Basic and Applied Sciences, Guru Gobind Singh Indraprastha University, New Delhi, 110078, India)
資料名：
Ceramics International
(Ceramics International)
巻： 48 号： 3 ページ： 2999-3019 発行年： 2022年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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