前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：202202213253298955
整理番号：22A0901224
高κベースInP金属-オキシド-半導体デバイスの電気的性質に及ぼすフッ素プラズマ前処理の効果【JST・京大機械翻訳】
Effects of fluorine plasma pre-treatment on electrical properties of high-κ-based InP metal-oxide-semiconductor device
Xu Qian
(School of Electronic Science and Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China)
,
Liu Wei-Dong
(School of Electronic Science and Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China)
,
Ding Yao-Xin
(School of Electronic Science and Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China)
,
Zheng Zhi-Wei
(School of Electronic Science and Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China)
,
Ying Lei-Ying
(School of Electronic Science and Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China)
,
Zhang Bao-Ping
(School of Electronic Science and Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 585 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。