文献
J-GLOBAL ID:202202217028028918
整理番号:22A0286756
Fe_2CoSi薄膜における厚み依存静磁気相互作用と分域状態配置 OFC解析【JST・京大機械翻訳】
Thickness-Dependent Magnetostatic Interactions and Domain State Configuration in Fe2CoSi Thin Films-FORC Analysis
著者 (4件):
Jana Apu Kumar
(Department of Physics, Magnetic Materials and Device Physics Laboratory, Indian Institute of Technology at Hyderabad, Hyderabad, India)
,
Raja M. Manivel
(Defence Metallurgical Research Laboratory (DMRL), Hyderabad, India)
,
Chelvane J. Arout
(Defence Metallurgical Research Laboratory (DMRL), Hyderabad, India)
,
Jammalamadaka S. Narayana
(Department of Physics, Magnetic Materials and Device Physics Laboratory, Indian Institute of Technology at Hyderabad, Hyderabad, India)
資料名:
IEEE Transactions on Magnetics
(IEEE Transactions on Magnetics)
巻:
58
号:
1
ページ:
ROMBUNNO.2000106.1-6
発行年:
2022年
JST資料番号:
A0339B
ISSN:
0018-9464
CODEN:
IEMGAQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)