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文献
J-GLOBAL ID：202202217918263934
整理番号：22A0828911
半導体応用のための三重四重極誘導結合プラズマ質量分析を用いたSiO_2ナノ粒子の検出【JST・京大機械翻訳】
Detection of SiO2 nanoparticles using triple-quadrupole inductively coupled plasma-mass spectrometry for semiconductor applications
Lim Heung Bin
(Department of Chemistry, Dankook University, Dongnam-gu, Cheonan, Chungnam, South Korea)
資料名：
Bulletin of the Korean Chemical Society
(Bulletin of the Korean Chemical Society)
巻： 43 号： 2 ページ： 255-260 発行年： 2022年
JST資料番号： T0051A ISSN： 0253-2964 CODEN： BKCSDE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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