文献
J-GLOBAL ID:202202218051925234
整理番号:22A0896180
HNO_3-HI-エチレングリコール溶液による化学エッチングにおけるCdTe,Zn_0.04Cd_0.96TeおよびCd_0.2Hg_0.8Te研磨表面の形成【JST・京大機械翻訳】
Formation of the CdTe, Zn0.04Cd0.96Te and Cd0.2Hg0.8Te polished surfaces at the chemical etching by HNO3-HI-ethylene glycol solutions
著者 (4件):
Malanych G. P.
(V. Ye.Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, NAS of Ukraine, Kiev, Ukraine)
,
Hvozdiyevskyi Ye. Ye.
(Zhytomyr Ivan Franko State University, Zhytomyr, Ukraine)
,
Tomashyk V. M.
(V. Ye.Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, NAS of Ukraine, Kiev, Ukraine)
,
Korchovyi A. A.
(V. Ye.Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, NAS of Ukraine, Kiev, Ukraine)
資料名:
Applied Nanoscience
(Applied Nanoscience)
巻:
12
号:
3
ページ:
597-602
発行年:
2022年
JST資料番号:
W6363A
ISSN:
2190-5517
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)