文献
J-GLOBAL ID:202202220233321798
整理番号:22A0735712
カーボンナノチューブベース電界放出陰極の特性に及ぼすXeプラズマ処理の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of Xe plasma processing on characteristics of carbon nanotube-based field emission cathodes
著者 (3件):
Kikukawa Rikiya
(Department of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu, Shizuoka, Japan)
,
Ohkawa Yasushi
(Japan Aerospace Exploration Agency, 3-1-1, Yoshinodai, Chuo-ku, Sagamihara, Kanagawa, Japan)
,
Yamagiwa Yoshiki
(Shizuoka University, 3-5-1, Johoku, Naka-ku, Hamamatsu, Shizuoka, Japan)
資料名:
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻:
122
ページ:
Null
発行年:
2022年
JST資料番号:
W0498A
ISSN:
0925-9635
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)