文献
J-GLOBAL ID:202202222570781072
整理番号:22A0620251
二軸歪によるMo_1-xW_xS_2単分子層の電子および光触媒特性の調整【JST・京大機械翻訳】
Tailoring the electronic and photocatalytic properties of Mo1-xWx S2 monolayers via biaxial strain
著者 (2件):
Nayak Dipali
(Condensed Matter Physics Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology (Indian School of Mines), Dhanbad, Jharkhand, India)
,
Thangavel R.
(Condensed Matter Physics Laboratory, Department of Physics, Indian Institute of Technology (Indian School of Mines), Dhanbad, Jharkhand, India)
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
57
号:
6
ページ:
4283-4299
発行年:
2022年
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)