文献
J-GLOBAL ID:202202223182323998
整理番号:22A0799079
金属薄膜における厚さ貫通亀裂のin situ電気抵抗ピーク広がりへの連結【JST・京大機械翻訳】
Linking through-thickness cracks in metallic thin films to in-situ electrical resistance peak broadening
著者 (5件):
Gebhart David D.
(Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, Leoben 8700, Austria)
,
Krapf Anna
(Department of Materials Science & Engineering, Institute 1, University of Erlangen-Nuernberg (FAU), Martensstrasse 5, Erlangen 91058, Germany)
,
Gammer Christoph
(Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, Leoben 8700, Austria)
,
Merle Benoit
(Department of Materials Science & Engineering, Institute 1, University of Erlangen-Nuernberg (FAU), Martensstrasse 5, Erlangen 91058, Germany)
,
Cordill Megan J.
(Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, Leoben 8700, Austria)
資料名:
Scripta Materialia
(Scripta Materialia)
巻:
212
ページ:
Null
発行年:
2022年
JST資料番号:
B0915A
ISSN:
1359-6462
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)