文献
J-GLOBAL ID:202202226508598554
整理番号:22A0891854
イオンビームスパッタTiO_2/Ag/TiO_2多層薄膜の光学的および電気的性質に及ぼすAg層厚の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of Ag layer thickness on optical and electrical properties of ion-beam-sputtered TiO2/Ag/TiO2 multilayer thin film
著者 (3件):
Singh Rajan
(Department of Physics, Birla Institute of Technology, Ranchi, India)
,
Gupta Mukul
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, Indore, India)
,
Mukherjee S. K.
(Department of Physics, Birla Institute of Technology, Ranchi, India)
資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻:
33
号:
9
ページ:
6942-6953
発行年:
2022年
JST資料番号:
W0003A
ISSN:
0957-4522
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)