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文献
J-GLOBAL ID：202202230274755885
整理番号：22A0909527
非晶質HfO_2の増強された熱原子層エッチングの起源【JST・京大機械翻訳】
Origin of enhanced thermal atomic layer etching of amorphous HfO2
Mullins Rita
(Tyndall National Institute, University College Cork, Cork T12 R5CP, Ireland)
,
Gutierrez Moreno Jose Julio
(Barcelona Supercomputing Center (BSC), C/Jordi Girona 31, 08034 Barcelona, Spain)
,
Nolan Michael
(Tyndall National Institute, University College Cork, Cork T12 R5CP, Ireland)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 40 号： 2 ページ： 022604-022604-10 発行年： 2022年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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