文献
J-GLOBAL ID:202202230274755885
整理番号:22A0909527
非晶質HfO_2の増強された熱原子層エッチングの起源【JST・京大機械翻訳】
Origin of enhanced thermal atomic layer etching of amorphous HfO2
著者 (3件):
Mullins Rita
(Tyndall National Institute, University College Cork, Cork T12 R5CP, Ireland)
,
Gutierrez Moreno Jose Julio
(Barcelona Supercomputing Center (BSC), C/Jordi Girona 31, 08034 Barcelona, Spain)
,
Nolan Michael
(Tyndall National Institute, University College Cork, Cork T12 R5CP, Ireland)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
40
号:
2
ページ:
022604-022604-10
発行年:
2022年
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)