文献
J-GLOBAL ID:202202230349047598
整理番号:22A0728451
Arガス添加剤による「ブラックシリコン」の低温無マスクエッチングの研究【JST・京大機械翻訳】
Study of Cryogenic Unmasked Etching of “Black Silicon” with Ar Gas Additives
著者 (9件):
Vyacheslavova Ekaterina A.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Morozov Ivan A.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Kudryashov Dmitri A.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Uvarov Alexander V.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Baranov Artem I.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Maksimova Alina A.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Abolmasov Sergey N.
(R&D Center of Thin Film Technologies (Hevel LLC), Russia)
,
Gudovskikh Alexander S.
(Alferov University (Saint Petersburg Academic University), Russia)
,
Gudovskikh Alexander S.
(Saint Petersburg Electrotechnical University ≪LETI≫, Russia)
資料名:
ACS Omega
(ACS Omega)
巻:
7
号:
7
ページ:
6053-6057
発行年:
2022年
JST資料番号:
W5044A
ISSN:
2470-1343
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)