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文献
J-GLOBAL ID：202202239276908029
整理番号：22A1043671
Siナノワイヤからの光支援電界放出における負性微分抵抗【JST・京大機械翻訳】
Negative differential resistance in photoassisted field emission from Si nanowires
Choueib M.
(Departement de chimie, Universite de Montreal, Montreal, Quebec H3T 1J4, Canada)
,
Derouet A.
(Institut Lumiere Matiere, Universite Lyon 1, CNRS, UMR 5306, F-69622 Villeurbanne Cedex, France)
,
Vincent P.
(Institut Lumiere Matiere, Universite Lyon 1, CNRS, UMR 5306, F-69622 Villeurbanne Cedex, France)
,
Ayari A.
(Institut Lumiere Matiere, Universite Lyon 1, CNRS, UMR 5306, F-69622 Villeurbanne Cedex, France)
,
Perisanu S.
(Institut Lumiere Matiere, Universite Lyon 1, CNRS, UMR 5306, F-69622 Villeurbanne Cedex, France)
,
Poncharal P.
(Institut Lumiere Matiere, Universite Lyon 1, CNRS, UMR 5306, F-69622 Villeurbanne Cedex, France)
,
Cojocaru C. S.
(Ecole Polytechnique LPICM, UMR 7647, F-91128 Palaiseau, France)
,
Martel R.
(Departement de chimie, Universite de Montreal, Montreal, Quebec H3T 1J4, Canada)
,
Purcell S. T.
(Institut Lumiere Matiere, Universite Lyon 1, CNRS, UMR 5306, F-69622 Villeurbanne Cedex, France)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 40 号： 2 ページ： 022802-022802-8 発行年： 2022年
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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