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文献
J-GLOBAL ID：202202239442512257
整理番号：22A0943700
高温でマグネトロンスパッタした酸化インジウムすず薄膜のTCRに及ぼす窒素分圧の影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of nitrogen partial pressure on the TCR of magnetron sputtered indium tin oxide thin films at high temperatures
Liu Zhichun
(Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of Liaoning Province, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
,
Liang Junsheng
(Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of Liaoning Province, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
,
Zhou Hao
(Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of Liaoning Province, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
,
Li Jian
(Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of Liaoning Province, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
,
Yang Mingjie
(Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of Liaoning Province, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
,
Cao Sen
(Key Laboratory for Micro/Nano Technology and System of Liaoning Province, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
,
Xu Jun
(Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Ministry of Education, School of Physics, Dalian University of Technology, Dalian, 116023, China)
資料名：
Ceramics International
(Ceramics International)
巻： 48 号： 9 ページ： 12924-12931 発行年： 2022年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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