文献
J-GLOBAL ID:202202239507187147
整理番号:22A0943567
ナノ構造Ruナノドット0_x-RuO_2±nH_2O薄膜のSILD調製:電極触媒特性に及ぼす堆積サイクルの影響【JST・京大機械翻訳】
SILD-preparation of nanostructured Ru0 x-RuO2・nH2O thin films: Effect of deposition cycles on electrocatalytic properties
著者 (3件):
Kaneva Maria V.
(Institute of Chemistry, Saint-Petersburg State University, 26 University prosp., St. Peterhof, Saint-Petersburg, 198504, Russia)
,
Reveguk Anastasia A.
(Institute of Chemistry, Saint-Petersburg State University, 26 University prosp., St. Peterhof, Saint-Petersburg, 198504, Russia)
,
Tolstoy Valeri P.
(Institute of Chemistry, Saint-Petersburg State University, 26 University prosp., St. Peterhof, Saint-Petersburg, 198504, Russia)
資料名:
Ceramics International
(Ceramics International)
巻:
48
号:
8
ページ:
11672-11677
発行年:
2022年
JST資料番号:
H0705A
ISSN:
0272-8842
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)