文献
J-GLOBAL ID:202202239539674962
整理番号:22A0229991
高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積した酸化銅薄膜に及ぼす酸素流量効果【JST・京大機械翻訳】
Oxygen flow rate effect on copper oxide thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering
著者 (4件):
Tadjine Rabah
(CDTA, Cite du 20 Aout 1956, BP N°17 Baba-Hassen, 16303 Algiers, Algeria)
,
Houimi Amina
(University USTHB, BP32 El Alia 16111 Bab Ezzouar, Algiers, Algeria)
,
Alim Mohamed Mounes
(CDTA, Cite du 20 Aout 1956, BP N°17 Baba-Hassen, 16303 Algiers, Algeria)
,
Oudini Noureddine
(CDTA, Cite du 20 Aout 1956, BP N°17 Baba-Hassen, 16303 Algiers, Algeria)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
741
ページ:
Null
発行年:
2022年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)