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文献
J-GLOBAL ID：202202240468083992
整理番号：22A0433702
シリコンロッド上のSi機構へのSiHCl_3還元の結晶ファセット依存性【JST・京大機械翻訳】
Crystal facet dependence of SiHCl3 reduction to Si mechanism on silicon rod
Peng Mao
(School of Chemical Engineering and Technology, Tianjin University, Tianjin 300350, China)
,
Shi Baozhao
(School of Chemical Engineering and Technology, Tianjin University, Tianjin 300350, China)
,
Han You
(School of Chemical Engineering and Technology, Tianjin University, Tianjin 300350, China)
,
Li Wei
(School of Chemical Engineering and Technology, Tianjin University, Tianjin 300350, China)
,
Zhang Jinli
(School of Chemical Engineering and Technology, Tianjin University, Tianjin 300350, China)
,
Zhang Jinli
(School of Chemistry and Chemical Engineering, Shihezi University, Shihezi 832003, China)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 580 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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