文献
J-GLOBAL ID:202202240643654766
整理番号:22A1038284
反応性マグネトロン共スパッタリングにより加工したNi,Ni-窒化チタンおよびNi_90Cu_10-窒化チタン膜の微細構造,機械的およびナノトライボロジー特性【JST・京大機械翻訳】
Microstructure, Mechanical, and Nanotribological Properties of Ni, Ni-TiN, and Ni90Cu10-TiN Films Processed by Reactive Magnetron Cosputtering
著者 (2件):
Kumar Mukesh
(Department of Physics, Faculty of Science, Shree Guru Gobind Singh Tricentenary University, Gurgaon, Delhi-NCR, India)
,
Sharma Ashutosh
(Department of Materials Science and Engineering, Ajou University, Suwon, Gyeonggi-do 16499, Republic of Korea)
資料名:
Advances in Materials Science and Engineering (Web)
(Advances in Materials Science and Engineering (Web))
巻:
2022
ページ:
Null
発行年:
2022年
JST資料番号:
U7020A
ISSN:
1687-8434
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)