文献
J-GLOBAL ID:202202241137665863
整理番号:22A1161820
種々のナノ材料のスパッタリング挙動評価のためのガスクラスタイオンビームを備えたX線光電子分光法【JST・京大機械翻訳】
X-ray Photoelectron Spectroscopy Equipped with Gas Cluster Ion Beams for Evaluation of the Sputtering Behavior of Various Nanomaterials
著者 (8件):
Chang Hsun-Yun
(Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan)
,
Lin Wei-Chun
(Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan)
,
Chu Po-Chih
(Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan)
,
Wang Yi-Kai
(Department of Photonics, National Sun Yat-Sen University, Taiwan)
,
Sogo Mauo
(Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan)
,
Iida Shin-ichi
(Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan)
,
Peng Chien-Jung
(Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan)
,
Miyayama Takuya
(Analytical Laboratory, ULVAC-PHI, Inc., Kanagawa, Japan)
資料名:
ACS Applied Nano Materials
(ACS Applied Nano Materials)
巻:
5
号:
3
ページ:
4260-4268
発行年:
2022年
JST資料番号:
W5033A
ISSN:
2574-0970
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)