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文献
J-GLOBAL ID：202202244283576547
整理番号：22A0430965
60~900°Cの極低温におけるH_2Oプラズマを用いたプラズマ増強原子層蒸着による多結晶および高純度SnO_2膜【JST・京大機械翻訳】
Polycrystalline and high purity SnO2 films by plasma-enhanced atomic layer deposition using H2O plasma at very low temperatures of 60-90 °C
Won Jong Hyeon
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 01811, Republic of Korea)
,
Choi Heenang
(Division of Advanced Materials, Korea Research Institute of Chemical Technology (KRICT), 141 Gajeong-Ro, Yuseong-Gu, Daejeon, 34114, Republic of Korea)
,
Han Seong Ho
(Division of Advanced Materials, Korea Research Institute of Chemical Technology (KRICT), 141 Gajeong-Ro, Yuseong-Gu, Daejeon, 34114, Republic of Korea)
,
Park Bo Keun
(Division of Advanced Materials, Korea Research Institute of Chemical Technology (KRICT), 141 Gajeong-Ro, Yuseong-Gu, Daejeon, 34114, Republic of Korea)
,
Chung Taek-Mo
(Division of Advanced Materials, Korea Research Institute of Chemical Technology (KRICT), 141 Gajeong-Ro, Yuseong-Gu, Daejeon, 34114, Republic of Korea)
,
Han Jeong Hwan
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 01811, Republic of Korea)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 196 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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