文献
J-GLOBAL ID:202202254699841864
整理番号:22A1156880
AP-MOVPEによるGaN層成長のための(001)および(11n)_n=1,3GaAs基板配向:GaNバッファ層の厚さの影響【JST・京大機械翻訳】
(001) and (11n)n = 1,3 GaAs substrate orientations for growth of GaN layers by AP-MOVPE: impact of GaN buffer layer thickness
著者 (2件):
Laifi J.
(Physics Department, College of Science, Jouf University, Sakaka, Saudi Arabia)
,
Bchetnia A.
(Department of Physics, College of Science, Qassim University, Buraydah, Qassim, Saudi Arabia)
資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻:
33
号:
10
ページ:
7587-7597
発行年:
2022年
JST資料番号:
W0003A
ISSN:
0957-4522
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)