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文献
J-GLOBAL ID:202202258581801125   整理番号:22A1087085

FFP3面マスクの冷大気プラズマ除染と長期材料効果【JST・京大機械翻訳】

Cold Atmospheric Plasma Decontamination of FFP3 Face Masks and Long-Term Material Effects
著者 (4件):
Schmidt Alisa
(I. Physical Institute, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
Tschang Chen-Yon Tobias
(I. Physical Institute, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
Sann Joachim
(Center for Materials Research and the Institute of Physical Chemistry, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
Thoma Markus H.
(I. Physical Institute, Justus Liebig University, Giessen, Germany)

資料名:
IEEE Transactions on Radiation and Plasma Medical Sciences  (IEEE Transactions on Radiation and Plasma Medical Sciences)

巻:号:ページ: 493-502  発行年: 2022年 
JST資料番号: W2475A  ISSN: 2469-7311  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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