文献
J-GLOBAL ID:202202258581801125
整理番号:22A1087085
FFP3面マスクの冷大気プラズマ除染と長期材料効果【JST・京大機械翻訳】
Cold Atmospheric Plasma Decontamination of FFP3 Face Masks and Long-Term Material Effects
著者 (4件):
Schmidt Alisa
(I. Physical Institute, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
,
Tschang Chen-Yon Tobias
(I. Physical Institute, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
,
Sann Joachim
(Center for Materials Research and the Institute of Physical Chemistry, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
,
Thoma Markus H.
(I. Physical Institute, Justus Liebig University, Giessen, Germany)
資料名:
IEEE Transactions on Radiation and Plasma Medical Sciences
(IEEE Transactions on Radiation and Plasma Medical Sciences)
巻:
6
号:
4
ページ:
493-502
発行年:
2022年
JST資料番号:
W2475A
ISSN:
2469-7311
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)