文献
J-GLOBAL ID:202202258650996446
整理番号:22A0418615
多次元RFシースモデルと半導体製造プラズマエッチング装置への応用
著者 (2件):
伝宝一樹
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ 成膜技術開発セ)
,
川上雅人
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ 成膜技術開発セ)
資料名:
計算工学
(Journal of the Japan Society for Computational Engineering and Science)
巻:
27
号:
1
ページ:
4383-4387
発行年:
2022年01月31日
JST資料番号:
L5669A
ISSN:
1341-7622
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)