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J-GLOBAL ID:202202259438438002   整理番号:22A0434756

DRAMキャパシタ誘電応用のためのカクテル前駆体を用いた原子層蒸着により蒸着したYドープHfO_2【JST・京大機械翻訳】

Y-doped HfO2 deposited by atomic layer deposition using a cocktail precursor for DRAM capacitor dielectric application
著者 (12件):
Kim Jenam
(Department of Advanced Materials Engineering for Information and Electronics, And Integrated Education Program for Frontier Science & Technology (BK21 Four), Kyung Hee University, Yongin, Gyeonggi, 17104, South Korea)
Kim Byung Seok
(Department of Advanced Materials Engineering for Information and Electronics, And Integrated Education Program for Frontier Science & Technology (BK21 Four), Kyung Hee University, Yongin, Gyeonggi, 17104, South Korea)
Lee Ae Jin
(Department of Advanced Materials Engineering for Information and Electronics, And Integrated Education Program for Frontier Science & Technology (BK21 Four), Kyung Hee University, Yongin, Gyeonggi, 17104, South Korea)
Han Dong Hee
(Department of Advanced Materials Engineering for Information and Electronics, And Integrated Education Program for Frontier Science & Technology (BK21 Four), Kyung Hee University, Yongin, Gyeonggi, 17104, South Korea)
Hwang Ji Hyeon
(Department of Advanced Materials Engineering for Information and Electronics, And Integrated Education Program for Frontier Science & Technology (BK21 Four), Kyung Hee University, Yongin, Gyeonggi, 17104, South Korea)
Hwang Ji Hyeon
(Soft Hybrid Materials Research Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul, 02792, South Korea)
Kim Youngjin
(Soft Hybrid Materials Research Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul, 02792, South Korea)
Song Ki-Chang
(Advanced Research Development Team, SK Trichem Co. Ltd., Sejong, 30068, South Korea)
Oh Hansol
(Advanced Research Development Team, SK Trichem Co. Ltd., Sejong, 30068, South Korea)
Kim Sangho
(Advanced Research Development Team, SK Trichem Co. Ltd., Sejong, 30068, South Korea)
Park Yongjoo
(Advanced Research Development Team, SK Trichem Co. Ltd., Sejong, 30068, South Korea)
Jeon Woojin
(Department of Advanced Materials Engineering for Information and Electronics, And Integrated Education Program for Frontier Science & Technology (BK21 Four), Kyung Hee University, Yongin, Gyeonggi, 17104, South Korea)

資料名:
Ceramics International  (Ceramics International)

巻: 48  号:ページ: 3236-3242  発行年: 2022年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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