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文献
J-GLOBAL ID：202202260542699272
整理番号：22A0475368
RCpCo(CO)_2とアルキルアミン前駆体を用いた熱原子層蒸着による金属共膜の予備的成長【JST・京大機械翻訳】
Preliminary growth of metallic co films by thermal atomic layer deposition using RCpCo(CO)2 and alkylamine precursors
Zhong Xuan
(School of Materials Science and Engineering, Sun Yat-sen University, Guangzhou, Guangdong Province 510275, China)
,
Wan Zhixin
(School of Materials Science and Engineering, Sun Yat-sen University, Guangzhou, Guangdong Province 510275, China)
,
Xi Bin
(School of Materials Science and Engineering, Sun Yat-sen University, Guangzhou, Guangdong Province 510275, China)
資料名：
Materials Letters
(Materials Letters)
巻： 311 ページ： Null 発行年： 2022年
JST資料番号： E0935A ISSN： 0167-577X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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