文献
J-GLOBAL ID:202202261359804235
整理番号:22A0007448
光照射下のH_3PW_12O_40によるベンゼンのフェノールへの一段階酸化:操作条件の影響【JST・京大機械翻訳】
One-step oxidation of benzene to phenol with H3PW12O40 under photoirradiation: Effect of operating conditions
著者 (3件):
Wang Ziru
(Department of Molecular and Material Sciences, Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University, 6-1, Kasugakoen, Kasuga, Fukuoka 816-8580, Japan)
,
Hojo Hajime
(Department of Material Sciences, Faculty of Engineering Sciences, Kyushu University, 6-1, Kasugakoen, Kasuga, Fukuoka 816-8580, Japan)
,
Einaga Hisahiro
(Department of Material Sciences, Faculty of Engineering Sciences, Kyushu University, 6-1, Kasugakoen, Kasuga, Fukuoka 816-8580, Japan)
資料名:
Chemical Engineering Journal
(Chemical Engineering Journal)
巻:
427
ページ:
Null
発行年:
2022年
JST資料番号:
D0723A
ISSN:
1385-8947
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)