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文献
J-GLOBAL ID：202202262425532992
整理番号：22A0619413
ネガティブ金属系,ネガティブおよびポジティブトーン現像EUVレジストの間における確率モデリングと局所CD均一性の比較
Stochastic Modeling and Local CD Uniformity Comparison between Negative Metal-Based, Negative- and Positive-Tone Development EUV Resists
KAMOHARA Itaru
,
WELLING Ulrich
(Synopsys GmbH)
,
KLOSTERMANN Ulrich
(Synopsys GmbH)
,
DEMMERLE Wolfgang
(Synopsys GmbH)
資料名：
IEICE Transactions on Electronics (Web)
(IEICE Transactions on Electronics (Web))
巻： E105.C 号： 1 ページ： 35-46(J-STAGE) 発行年： 2022年
JST資料番号： U0468A ISSN： 1745-1353 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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