文献
J-GLOBAL ID:202202263926976608
整理番号:22A0950042
Argonクラスタイオンスパッタ収率:全スパッタ収率を推定するためのシリコンと方程式に関する分子動力学シミュレーション【JST・京大機械翻訳】
Argon cluster-ion sputter yield: Molecular dynamics simulations on silicon and equation for estimating total sputter yield
著者 (4件):
Cumpson Peter J.
(NEXUS laboratory, School of Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, UK)
,
Cumpson Peter J.
(Now at Mark Wainwright Analytical Centre, University of New South Wales, Sydney, New South Wales, Australia)
,
Jaskiewicz Mieszko
(NEXUS laboratory, School of Engineering, Newcastle University, Newcastle upon Tyne, UK)
,
Kim Woo Kyun
(Department of Mechanical and Materials Engineering, University of Cincinnati, Cincinnati, Ohio, USA)
資料名:
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻:
54
号:
4
ページ:
341-348
発行年:
2022年
JST資料番号:
E0709A
ISSN:
0142-2421
CODEN:
SIANDQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)